硅基N沟道VDMOS不同偏置下总剂量效应研究

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固体电子学研究与进展 ›› 2023, Vol. 43 ›› Issue (5) : 450-455.

材料与工艺

硅基N沟道VDMOS不同偏置下总剂量效应研究

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Study on the Total Dose Effect of Silicon‑based N‑channel VDMOS with Different Bias

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收稿日期	修回日期	出版日期
2023-02-22	2023-07-17	2023-10-25
发布日期
2023-10-25

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