低应力掺钪氮化铝薄膜制备技术研究

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固体电子学研究与进展 ›› 2021, Vol. 41 ›› Issue (4) : 319-322.

材料与工艺

低应力掺钪氮化铝薄膜制备技术研究

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Study on Fabrication of Low Stress Scandium-doped Aluminum Nitride

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收稿日期	修回日期	出版日期
2021-03-30	2021-04-21	2021-08-25
发布日期
2024-11-14

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