多种添加剂及电流密度对高径深TSV电镀影响研究

李杰, 王雷, 姜理利, 黄旼, 郁元卫, 张洪泽, 陈聪

固体电子学研究与进展 ›› 2021, Vol. 41 ›› Issue (3) : 166-170.

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固体电子学研究与进展 ›› 2021, Vol. 41 ›› Issue (3) : 166-170.
三维集成射频微系统(专栏)

多种添加剂及电流密度对高径深TSV电镀影响研究

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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Study on Effect of Various Additives and Current Density on TSV Electroplating with Depth-width Ratio

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2021, 41(3): 166-170
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2021, 41(3): 166-170
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{{article.reference}}

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{{article.copyrightLicense_cn}}
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