浮栅和高压栅极共掺在EEPROM中的应用研究

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固体电子学研究与进展 ›› 2024, Vol. 44 ›› Issue (4) : 363-366. DOI: 10.12450/j.gtdzx.202404015

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Research on the Application of Floating Gate and High‑voltage Gate Co‑doping in EEPROM

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